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Robust quantum point contact operation of narrow graphene constrictions patterned by AFM cleavage lithography

작성자

관리자

조회수

22

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 양자 기반 핵심 측정기술 개발
논문명 Robust quantum point contact operation of narrow graphene constrictions patterned by AFM cleavage lithography
성과고유번호 JNL-2020-00111598975 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Hwang, Chanyong;Nemes-Incze, Peter;Kun, Peter;Csonka, Szabolcs;Dobrik, Gergely;Lukacs, Istvan Endre;Tapaszto, Levente;Fulop, Balint 소속기관명 한국표준과학연구원 기여율 100.0 %
공동저자
학술지
학술지명 npj 2D Materials and Applications 권(호) 4 (1) 시작페이지
DOI 10.1038/s41699-020-00177-x ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 03시 58분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 25분