논문 상세
목록Structural, Optical and Electrical Properties of HfO2 Thin Films Deposited at Low-Temperature Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
작성자
관리자
조회수
22
등록일
2024-07-23
논문 상세정보
| 과제 | 수소스테이션 신뢰성 평가기술 개발 | ||||
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| 논문명 | Structural, Optical and Electrical Properties of HfO2 Thin Films Deposited at Low-Temperature Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition | ||||
| 성과고유번호 | JNL-2020-00111599078 | 성과발생연도 | 2020 | 국내외구분 | |
| 학술지구분 | 학술지유형 | SCIE | |||
| 논문초록 | |||||
| 주저자 | Yoon, Soon-Gil;Yun, Ju-Young;Chung, Nak-Kwan;Jang, Jin Sub;Kim, Kyoung-Mun | 소속기관명 | 한국표준과학연구원 | 기여율 | 50.0 % |
| 공동저자 | |||||
학술지
| 학술지명 | Materials | 권(호) | 13 (9) | 시작페이지 | |||
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| DOI | 10.3390/ma13092008 | ISSN | ISBN | ||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-07-23 PM 03시 58분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 25분 | ||||
논문 원문