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Charging Effect by Fluorine-Treatment and Recess Gate for Enhancement-Mode on AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors

작성자

관리자

조회수

23

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 국방 무기체계용 핵심 반도체 부품 자립화 플랫폼 개발
논문명 Charging Effect by Fluorine-Treatment and Recess Gate for Enhancement-Mode on AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors
성과고유번호 JNL-2020-00111545264 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Kim, Seong-Il;Kim, Haecheon;Jung, Hyun-Wook;Lee, Byoung Hun;Lee, Sang-Heung;Kang, Soo Cheol;Noh, Youn-sub;Lim, Jong-Won;Kim, Seung Mo;Ahn, Ho-Kyun;Lee, Sang Kyung;Chang, Sung-Jae 소속기관명 한국전자통신연구원 기여율 100.0 %
공동저자
학술지
학술지명 Nanomaterials 권(호) 10 (11) 시작페이지
DOI 10.3390/nano10112116 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 03시 59분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 25분