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Comprehensive Research of Total Ionizing Dose Effects in GaN-Based MIS-HEMTs Using Extremely Thin Gate Dielectric Layer

작성자

관리자

조회수

23

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 국방 무기체계용 핵심 반도체 부품 자립화 플랫폼 개발
논문명 Comprehensive Research of Total Ionizing Dose Effects in GaN-Based MIS-HEMTs Using Extremely Thin Gate Dielectric Layer
성과고유번호 JNL-2020-00111545266 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Kim, Dong-Seok;Lee, Jung-Hee;Kim, Tae-Woo;Chang, Sung-Jae;Lim, Jong-Won;Ahn, Ho-Kyun;Bae, Youngho;Kim, Seong-Il;Jung, Hyun-Wook;Kim, Haecheon;Noh, Youn-sub;Lee, Sang-Heung;Kang, Soo Cheol 소속기관명 한국전자통신연구원 기여율 100.0 %
공동저자
학술지
학술지명 Nanomaterials 권(호) 10 (11) 시작페이지
DOI 10.3390/nano10112175 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 03시 59분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 25분