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Traceable thickness measurement of ultra-thin HfO2 films by medium-energy ion scattering spectroscopy

작성자

관리자

조회수

21

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 ICT 핵심소재 성분분석 최상위 기술개발
논문명 Traceable thickness measurement of ultra-thin HfO2 films by medium-energy ion scattering spectroscopy
성과고유번호 JNL-2020-00111424198 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Park, Kyungsu;Kim, Kyung Joong;Kwon, Ji-Hwan;Min, Won Ja;Ruh, Hyun;Kim, Tae Gun 소속기관명 한국표준과학연구원 기여율 100.0 %
공동저자
학술지
학술지명 METROLOGIA 권(호) 57 (2) 시작페이지
DOI 10.1088/1681-7575/ab57f0 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 03시 59분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 25분