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Effect of the Bilayer Period of Atomic Layer Deposition on the Growth Behavior and Electrical Properties of the Amorphous In-Zn-O Film

작성자

관리자

조회수

42

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 3D 나노기반 하이브리드 구조체 제작 플랫폼 및 나노IVD 시스템 통합 기술 개발
논문명 Effect of the Bilayer Period of Atomic Layer Deposition on the Growth Behavior and Electrical Properties of the Amorphous In-Zn-O Film
성과고유번호 JNL-2020-00111487896 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Kang, Yun-Ho;Lee, Hyerin;Kim, Min-Sik;Lee, Sangbong;Kim, Hyun-Mi;Kim, Minsu;Yoon, Tae-Sik;Kim, Ki-Bum;Cho, Yeong-Ho 소속기관명 한국기계연구원 기여율 33.33 %
공동저자
학술지
학술지명 ACS Applied Materials & Interfaces 권(호) 12 (35) 시작페이지 39372
DOI 10.1021/acsami.0c07540 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 01분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 27분