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Analysis of fluorine effects on charge-trap flash memory of W/TiN/Al2O3/Si3N4/SiO2/poly-Si gate stack

작성자

관리자

조회수

45

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 미래전자통신 인재양성사업단
논문명 Analysis of fluorine effects on charge-trap flash memory of W/TiN/Al2O3/Si3N4/SiO2/poly-Si gate stack
성과고유번호 JNL-2020-00111675472 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Moon, Jung Min;Son, Jun Woo;Bong, Jae Hoon;Choi, Yang Kyu;Hwang, Wan Sik;Lee, Tae Yoon;Lee, Seung Hwan;Kim, Sung Ho;Lee, Sang Jae;Shin, Eui Joong;Cho, Byung Jin 소속기관명 한국과학기술원 기여율 100.0 %
공동저자
학술지
학술지명 SOLID-STATE ELECTRONICS 권(호) 164 시작페이지
DOI 10.1016/j.sse.2019.107713 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 02분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 27분