R&D 정보

논문 상세

목록

Effective Schottky barrier lowering of NiGe/p-Ge(100) using Terbium interlayer structure for high performance p-type MOSFETs

작성자

관리자

조회수

28

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 국방산업융합ICT인력양성사업단
논문명 Effective Schottky barrier lowering of NiGe/p-Ge(100) using Terbium interlayer structure for high performance p-type MOSFETs
성과고유번호 JNL-2020-00111679741 성과발생연도 2020 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Lee, Ga-Won;Lee, Hi-Deok;Eadi, Sunil Babu;Lee, Jeong Chan;Oh, Jungwoo;Song, Hyeong-Sub 소속기관명 충남대학교 기여율 0.0 %
공동저자
학술지
학술지명 Scientific Reports 권(호) 10 (1) 시작페이지
DOI 10.1038/s41598-020-61011-4 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 02분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 28분