논문 상세
목록Recent Progress in Simple and Cost-Effective Top-Down Lithography for approximate to 10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography
작성자
관리자
조회수
41
등록일
2024-07-23
논문 상세정보
| 과제 | 새로운 방식의 멀티스케일 나노 구조체 제작 기술 개발 및 응용 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 논문명 | Recent Progress in Simple and Cost-Effective Top-Down Lithography for approximate to 10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography | ||||
| 성과고유번호 | JNL-2020-00111553600 | 성과발생연도 | 2020 | 국내외구분 | |
| 학술지구분 | 학술지유형 | SCIE | |||
| 논문초록 | |||||
| 주저자 | Jung, Hee-Tae;Cho, Soo-Yeon;Jeon, Hwan-Jin;Jang, Sungwoo;Jung, Woo-Bin | 소속기관명 | 한국과학기술원 | 기여율 | 50.0 % |
| 공동저자 | |||||
학술지
| 학술지명 | ADVANCED MATERIALS | 권(호) | 32 (35) | 시작페이지 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| DOI | 10.1002/adma.201907101 | ISSN | ISBN | ||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-07-23 PM 04시 04분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 29분 | ||||
논문 원문