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Enhancement of Photoresponse on Narrow-Bandgap Mott Insulator alpha-RuCl3 via Intercalation

작성자

관리자

조회수

38

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 반데르발스 물질에 다양한 분자 삽입을 통한 자기 특성 구현 및 이를 활용한 대면적 이종접합 자기소자 개발
논문명 Enhancement of Photoresponse on Narrow-Bandgap Mott Insulator alpha-RuCl3 via Intercalation
성과고유번호 JNL-2021-00112130112 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Jo, Min-Kyung 소속기관명 (재)한국표준과학연구원 기여율 33.33 %
공동저자
학술지
학술지명 ACS NANO 권(호) 15 (11) 시작페이지 18113
DOI 10.1021/acsnano.1c06752 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 08분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 32분