논문 상세
목록Impact of Post-Metal Annealing With Deuterium or Nitrogen for Curing a Gate Dielectric Using Joule Heat Driven by Punch-Through Current
작성자
관리자
조회수
42
등록일
2024-07-23
논문 상세정보
| 과제 | CMOS 기술을 이용한 융 복합 하드웨어 기반 나노 보안기술 | ||||
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| 논문명 | Impact of Post-Metal Annealing With Deuterium or Nitrogen for Curing a Gate Dielectric Using Joule Heat Driven by Punch-Through Current | ||||
| 성과고유번호 | JNL-2021-00111996683 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | |
| 학술지구분 | 학술지유형 | SCIE | |||
| 논문초록 | |||||
| 주저자 | Park, Jun-Young | 소속기관명 | 한국과학기술원 | 기여율 | 100.0 % |
| 공동저자 | |||||
학술지
| 학술지명 | IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS | 권(호) | 42 (2) | 시작페이지 | 276 | ||
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| DOI | 10.1109/LED.2020.3043384 | ISSN | ISBN | ||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-07-23 PM 04시 08분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 32분 | ||||
논문 원문