논문 상세
목록Atomic layer deposition of a ruthenium thin film using a precursor with enhanced reactivity
작성자
관리자
조회수
34
등록일
2024-07-23
논문 상세정보
| 과제 | IoT 디바이스용 화학소재 기술 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 논문명 | Atomic layer deposition of a ruthenium thin film using a precursor with enhanced reactivity | ||||
| 성과고유번호 | JNL-2021-00111967840 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | |
| 학술지구분 | 학술지유형 | SCIE | |||
| 논문초록 | |||||
| 주저자 | Hwang, Jeong Min | 소속기관명 | 한국화학연구원 | 기여율 | 100.0 % |
| 공동저자 | |||||
학술지
| 학술지명 | JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C | 권(호) | 9 (11) | 시작페이지 | 3820 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| DOI | 10.1039/d0tc05682k | ISSN | ISBN | ||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-07-23 PM 04시 12분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 35분 | ||||
논문 원문