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목록Discharge physics and atomic layer etching in Ar/C4F6 inductively coupled plasmas with a radio frequency bias
작성자
관리자
조회수
26
등록일
2024-07-23
논문 상세정보
| 과제 | 융합형 창의 소재 교육연구단 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 논문명 | Discharge physics and atomic layer etching in Ar/C4F6 inductively coupled plasmas with a radio frequency bias | ||||
| 성과고유번호 | JNL-2021-00112167854 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | |
| 학술지구분 | 학술지유형 | SCIE | |||
| 논문초록 | |||||
| 주저자 | Yoon, Min Young | 소속기관명 | 충남대학 | 기여율 | 0.0 % |
| 공동저자 | |||||
학술지
| 학술지명 | PHYSICS OF PLASMAS | 권(호) | 28 (6) | 시작페이지 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| DOI | 10.1063/5.0047811 | ISSN | ISBN | ||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-07-23 PM 04시 13분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 35분 | ||||
논문 원문