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Effect of the surface contamination layer on the thickness measurement of ultra-thin HfO2 films

작성자

관리자

조회수

22

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 첨단측정장비 핵심기술 개발
논문명 Effect of the surface contamination layer on the thickness measurement of ultra-thin HfO2 films
성과고유번호 JNL-2021-00112136519 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Kim, Tae Gun 소속기관명 (재)한국표준과학연구원 기여율 50.0 %
공동저자
학술지
학술지명 APPLIED SURFACE SCIENCE 권(호) 545 (0) 시작페이지
DOI 10.1016/j.apsusc.2021.148982 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 13분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 35분