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Analysis of the negative charges injected into a SiO2/SiNx stack using plasma charging technology for field-effect passivation on a boron-doped silicon surface

작성자

관리자

조회수

40

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 244 cm2 대면적·7W급 고출력 태양전지·열전 융합소자 기술 개발
논문명 Analysis of the negative charges injected into a SiO2/SiNx stack using plasma charging technology for field-effect passivation on a boron-doped silicon surface
성과고유번호 JNL-2021-00112041929 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Min, Kwan Hong 소속기관명 (재)한국에너지기술연구원 기여율 33.33 %
공동저자
학술지
학술지명 PROGRESS IN PHOTOVOLTAICS 권(호) 29 (1) 시작페이지 54
DOI 10.1002/pip.3340 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 18분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 39분