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Process effect analysis on nitride trap distribution in silicon-oxide-nitride-oxide-silicon flash memory based on charge retention model

작성자

관리자

조회수

41

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 미래국방 지능형ICT 교육연구단
논문명 Process effect analysis on nitride trap distribution in silicon-oxide-nitride-oxide-silicon flash memory based on charge retention model
성과고유번호 JNL-2021-00112186627 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Song, Yumin 소속기관명 충남대학 기여율 0.0 %
공동저자
학술지
학술지명 MATERIALS EXPRESS 권(호) 11 (9) 시작페이지 1615
DOI 10.1166/mex.2021.2067 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 22분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 42분