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Multi-Step Chemical Solution Deposition-Annealing Process Toward Wake-Up Free Ferroelectricity in Y:HfO2 Films

작성자

관리자

조회수

30

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 K-Materials 글로벌 혁신 교육연구단
논문명 Multi-Step Chemical Solution Deposition-Annealing Process Toward Wake-Up Free Ferroelectricity in Y:HfO2 Films
성과고유번호 JNL-2021-00112190762 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Samanta, Shibnath 소속기관명 한국과학기술원 기여율 0.0 %
공동저자
학술지
학술지명 ADVANCED MATERIALS INTERFACES 권(호) 8 (18) 시작페이지
DOI 10.1002/admi.202100907 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 24분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 43분