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Extreme-Pressure Imprint Lithography for Heat and Ultraviolet-Free Direct Patterning of Rigid Nanoscale Features

작성자

관리자

조회수

23

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 가치창출 선도 KAIST 기계 교육연구단
논문명 Extreme-Pressure Imprint Lithography for Heat and Ultraviolet-Free Direct Patterning of Rigid Nanoscale Features
성과고유번호 JNL-2021-00112187985 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Park, Woon Ik 소속기관명 한국과학기술원 기여율 0.0 %
공동저자
학술지
학술지명 ACS NANO 권(호) 15 (6) 시작페이지 10464
DOI 10.1021/acsnano.1c02896 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 25분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 44분