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Characterization of SiO2 Etching Profiles in Pulse-Modulated Capacitively Coupled Plasmas

작성자

관리자

조회수

25

등록일

2024-07-23

논문 상세정보
과제 광 및 반도체 소재 부품 혁신 인재 양성 사업단
논문명 Characterization of SiO2 Etching Profiles in Pulse-Modulated Capacitively Coupled Plasmas
성과고유번호 JNL-2021-00112193401 성과발생연도 2021 국내외구분
학술지구분 학술지유형 SCIE
논문초록
주저자 Cho, Chulhee 소속기관명 충남대학 기여율 0.0 %
공동저자
학술지
학술지명 MATERIALS 권(호) 14 (17) 시작페이지
DOI 10.3390/ma14175036 ISSN ISBN
최초등록 관리자, 2024-07-23 PM 04시 25분 최종수정 관리자, 2024-10-24 PM 01시 44분