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2024-05-21
내역사업 | 상용표준물질개발보급사업 |
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과제명 | (11세부) High-k 합금산화물 nm박막 두께 분석용 인증표준물질 개발 및 보급 | ||||
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과제고유번호 | 1415167749 | ||||
부처명 | 산업통상자원부 | ||||
시행계획 내 사업명 | |||||
시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
과제수행연도 | 2020 | 총연구기간 | 2020-02-01 ~ 2021-12-31 | 당해연도 연구기간 | 2020-02-01 ~ 2020-12-31 |
연구목표 | 1. Hf0.5Zr0.5O2 (HZO) 두께 6종 (1 ~ 4 nm) 표준물질 제작 (10 mm × 10 mm, 배치형, 균질도: 5% 이내)2. HR-TEM, XRR, XPS, MEIS를 이용한 nm급 HZO 박막 두께 측정법 확립3. 각 측정법에 대한 불확도 평가 방법 확립 | ||
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연구내용 | 1. HZO 인증표준물질 제작- 본 연구에서는 1 ~ 4 nm 두께의 Hf1-xZrxO2 (HZO) 박막을 SiO2/Si(100) 기판 위에 원자층증착 (atomic layer deposition, ALD) 기술을 통해 제작하고자 함. (1) Hf0.5Zr0.5O2 (HZO) 원자층 증착 - HZO 박막두께: 6종 (1.5 nm, 2 nm, 2.5 nm... | ||
기대효과 | - 단일 물질이 아닌 high-k 합급 산화물 박막의 nm 소급성을 갖는 두께 인증법에 대한 세계 최초 기반 기술 개발.- 상호보정법을 이용한 신뢰성 있는 측정/분석 기술 개발은 다양한 측정 기술의 장점을 융합하여 각 단위 기술의 단점을 보완하는 개념의 새로운 측정 원리로서 절대두께측정 기술 뿐 아니라 다양한 초박막 측정 기술 개발을 촉진시킬 것임.- 다양... | ||
키워드 | 고유전율,산화막,도핑된 HfO2,인증표준물질,nm 두께 |
단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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연구개발단계 | 응용연구 | 산업기술분류 | |
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미래유망신기술(6T) | IT(정보기술) | 기술수명주기 | |
연구수행주체 | 연 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 기계 > 측정표준/시험평가기술 > 인증 표준물질 |
주력산업분류 | 적용분야 | 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비) | |
중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 한국표준과학연구원 | 사업자등록번호 | |
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연구책임자 | 소속기관명 | 한국표준과학연구원 | 사업자등록번호 | |
최종학위 | 박사 | 최종학력전공 |
국비 | 270,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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비고 |