관리자
87
2024-05-21
내역사업 | 차세대시스템반도체설계소자공정기술개발 |
---|
과제명 | 전구체 흡착 제어를 통한 원자단위 박막 조성 제어 기술 | ||||
---|---|---|---|---|---|
과제고유번호 | 1415169473 | ||||
부처명 | 산업통상자원부 | ||||
시행계획 내 사업명 | |||||
시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
과제수행연도 | 2020 | 총연구기간 | 2020-07-01 ~ 2022-12-31 | 당해연도 연구기간 | 2020-07-01 ~ 2021-03-31 |
연구목표 | o 물리적 박막 두께 : 5 nm 이하o 등가산화막 두께 : 2 nm 이하, 누설 전류: 10-2 A/cm2 이하, 계면결함밀도: 1012/eV㎠ 이하 o 유효 흡착율 (coverage) : 30 % 이상o 밴드갭 (band gap) : 5.7 eV 이상 | ||
---|---|---|---|
연구내용 | o TEMAH 전구체의 Si표면 흡착 모델에 따른 이론적 모델 수립 확보o 1st ALD pulse 및 초기 ALD 싸이클의 표면 흡착 반응 리간드 기 측정o 기존 ALD공정에 따른 HfO2박막 물성 및 전기적 특성 확보o 표면 처리 방법에 따른 Hf coverage양 및 화학적 결합기 측정o reaction coordinates의 함수에 따른 에너지 및 ... | ||
기대효과 | - 아마이드 소스중 하나인 TEMAH의 일반적인 제안 반응 모델을 이용한 전구체와 표면 반응 평가 검증- contact FT-IR 등을 이용하여 표면 반응기를 통한 세부 및 전체 반응기구 검증을 통한 전구체 흡착 반응 기초 데이터 확보를 전산 모사 모델링 기반 확보 | ||
키워드 | 원자층증착법,전구체 흡착,초기성장기구,밀도함수이론,고유전율 박막 |
단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
---|---|---|---|---|---|
|
연구개발단계 | 응용연구 | 산업기술분류 | |
---|---|---|---|
미래유망신기술(6T) | NT(나노기술) | 기술수명주기 | |
연구수행주체 | 학 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > 반도체 재료 |
주력산업분류 | 적용분야 | 제조업(전기 및 기계장비) | |
중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 충남대학교산학협력단 | 사업자등록번호 | |
---|---|---|---|---|
연구책임자 | 소속기관명 | 충남대학교산학협력단 | 사업자등록번호 | |
최종학위 | 박사 | 최종학력전공 |
국비 | 75,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
---|---|---|---|
비고 |