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전구체 흡착 제어를 통한 원자단위 박막 조성 제어 기술

작성자

관리자

조회수

87

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 차세대시스템반도체설계소자공정기술개발
과제 기본정보
과제명 전구체 흡착 제어를 통한 원자단위 박막 조성 제어 기술
과제고유번호 1415169473
부처명 산업통상자원부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2020 총연구기간 2020-07-01 ~ 2022-12-31 당해연도 연구기간 2020-07-01 ~ 2021-03-31
요약 정보
연구목표 o 물리적 박막 두께 : 5 nm 이하o 등가산화막 두께 : 2 nm 이하, 누설 전류: 10-2 A/cm2 이하, 계면결함밀도: 1012/eV㎠ 이하 o 유효 흡착율 (coverage) : 30 % 이상o 밴드갭 (band gap) : 5.7 eV 이상
연구내용 o TEMAH 전구체의 Si표면 흡착 모델에 따른 이론적 모델 수립 확보o 1st ALD pulse 및 초기 ALD 싸이클의 표면 흡착 반응 리간드 기 측정o 기존 ALD공정에 따른 HfO2박막 물성 및 전기적 특성 확보o 표면 처리 방법에 따른 Hf coverage양 및 화학적 결합기 측정o reaction coordinates의 함수에 따른 에너지 및 ...
기대효과 - 아마이드 소스중 하나인 TEMAH의 일반적인 제안 반응 모델을 이용한 전구체와 표면 반응 평가 검증- contact FT-IR 등을 이용하여 표면 반응기를 통한 세부 및 전체 반응기구 검증을 통한 전구체 흡착 반응 기초 데이터 확보를 전산 모사 모델링 기반 확보
키워드 원자층증착법,전구체 흡착,초기성장기구,밀도함수이론,고유전율 박막
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 응용연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) NT(나노기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > 반도체 재료
주력산업분류 적용분야 제조업(전기 및 기계장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 충남대학교산학협력단 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 충남대학교산학협력단 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공
사업비
국비 75,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고