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초고주파 대역용 3D TIV 집적화 공정 및 적층형 InP/GaN 소자 기술 개발

작성자

관리자

조회수

165

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 민군겸용기술개발사업
과제 기본정보
과제명 초고주파 대역용 3D TIV 집적화 공정 및 적층형 InP/GaN 소자 기술 개발
과제고유번호 1415170814
부처명 산업통상자원부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 계속과제 이전연도 과제번호 1415165894
과제수행연도 2020 총연구기간 2019-06-28 ~ 2024-06-27 당해연도 연구기간 2020-01-01 ~ 2020-12-31
요약 정보
연구목표 초고주파 시스템 수요 대응하여 전량 수입하는 InP 기반 초저잡 및 GaN 기반 고출력 RF 소자/MMIC 제작 기술과 InP/GaN 소자 집적화 수요에 대응하여 TIV 연결 기술로 InP/GaN 소자 3D 집적화 기술 개발- 10 ㎛ InP 기판 두께 Through-InP-Via (TIV) 기술 개발- 1 THz 이상 주파수 초고속/초저잡음 InP HEM...
연구내용 ① 10 um의 두께를 갖는 Through-InP-Via (TIV) 기술 개발.② 1 THz 이상의 주파수 특성을 갖는 초고속/초저잡음 InP HEMT 소자 개발.③ 500 GHz 이상의 주파수 특성을 갖는 SiC 기발 고출력/고효율 GaN HEMT 소자 개발.④ 3D TIV에 기반한 집적화된 InP/GaN 소자 구현.
기대효과 - AESA 레이더, 대포병 레이더, 군용통신 및 해상기반 레이더- 유도탄 탐색기, 전자전용 재머/방호시스템 및 우주 첩보위성용(내방사선 성능 소요분야) 소자 - 연구개발 종료시점인 2021년 기준으로 소재부품 상용화에 따라 군수용 시장에서 360억 원대 경제적 효과 기대.- GaN 과 InP 전자 소자에 대한 핵심 원천기술 개발을 바탕으로 5G 통신 인프...
키워드 인듐갈륨비소, 갈륨나이트라이드, 초고주파, 저잡음, 고출력, , ,
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 응용연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) IT(정보기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > 화합물소자
주력산업분류 적용분야 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국전자통신연구원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국전자통신연구원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 230,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고