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차세대 전자소자를 위한 영역 선택적 광화학 원자층 박막 증착 기술 개발

작성자

관리자

조회수

173

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 미래성장동력 창출 및 기업지원사업
과제 기본정보
과제명 차세대 전자소자를 위한 영역 선택적 광화학 원자층 박막 증착 기술 개발
과제고유번호 1711116968
부처명 과학기술정보통신부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2020 총연구기간 2020-01-01 ~ 2020-12-31 당해연도 연구기간 2020-01-01 ~ 2020-12-31
요약 정보
연구목표 -차세대 전자 소자 제조를 위해 소재 선별, 증착 거동 확보에 이르는 일련의 연구를 진행하여 광화학 반응을 이용한 영역 선택적 원자층 증착 관련 핵심 기술 개발 - 광조사에 따른 원자층 증착법을 통한 증착 선택비 확보 및 광학 패턴의 웨이퍼 전사 특성 확보1) 1차년도 - 산화막 광화학 원자층 증착법 개발 * 산화막용 광화학 원자층증착 장치 및 소재 ...
연구내용 - 광조사에 따른 증착률 차이를 보이는 원자층 박막 증착 및 소자화 기술 개발 · 광학적 활성도를 가지는 파장 영역의 광패턴을 기판상에 투영 가능한 광 조사 증착 장비 개발 · 광화학 반응을 보이는 전자소자용 유기금속 전구체 개발 · 개발 유기금속화학소재를 이용한 산화물의 영역 선택적 원자층 증착 공정 및 소자화 기술 개발
기대효과 - 차세대 전자소자용 영역 선택적 원자층 증착 핵심 기술 확보 - 원자층 증착 관련 기술 리더십 유지 및 확대 - 향후 영역 선택적 원자층 증착 관련 소재 및 소자 제작 연구를 위한 기반 확보 - SCI 논문 2건 발표 - 장치 및 증착 기술 관련 특허 2건 출원
키워드 원자층 증착법, 영역선택, 광화학, 전자소자, 공정기술
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 기초연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) NT(나노기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 재료 > 고분자재료 > 전기/전자정보용 소재기술
주력산업분류 적용분야 지식의 진보(비목적연구)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 서울대학교 산학협력단 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 서울대학교 산학협력단 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 59,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고