과제 상세정보
목록차세대 전자소자를 위한 영역 선택적 광화학 원자층 박막 증착 기술 개발
작성자
관리자
조회수
174
등록일
2024-05-21
사업 정보
| 내역사업 | 미래성장동력 창출 및 기업지원사업 |
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과제 기본정보
| 과제명 | 차세대 전자소자를 위한 영역 선택적 광화학 원자층 박막 증착 기술 개발 | ||||
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| 과제고유번호 | 1711116968 | ||||
| 부처명 | 과학기술정보통신부 | ||||
| 시행계획 내 사업명 | |||||
| 시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
| 계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
| 과제수행연도 | 2020 | 총연구기간 | 2020-01-01 ~ 2020-12-31 | 당해연도 연구기간 | 2020-01-01 ~ 2020-12-31 |
요약 정보
| 연구목표 | -차세대 전자 소자 제조를 위해 소재 선별, 증착 거동 확보에 이르는 일련의 연구를 진행하여 광화학 반응을 이용한 영역 선택적 원자층 증착 관련 핵심 기술 개발 - 광조사에 따른 원자층 증착법을 통한 증착 선택비 확보 및 광학 패턴의 웨이퍼 전사 특성 확보1) 1차년도 - 산화막 광화학 원자층 증착법 개발 * 산화막용 광화학 원자층증착 장치 및 소재 ... | ||
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| 연구내용 | - 광조사에 따른 증착률 차이를 보이는 원자층 박막 증착 및 소자화 기술 개발 · 광학적 활성도를 가지는 파장 영역의 광패턴을 기판상에 투영 가능한 광 조사 증착 장비 개발 · 광화학 반응을 보이는 전자소자용 유기금속 전구체 개발 · 개발 유기금속화학소재를 이용한 산화물의 영역 선택적 원자층 증착 공정 및 소자화 기술 개발 | ||
| 기대효과 | - 차세대 전자소자용 영역 선택적 원자층 증착 핵심 기술 확보 - 원자층 증착 관련 기술 리더십 유지 및 확대 - 향후 영역 선택적 원자층 증착 관련 소재 및 소자 제작 연구를 위한 기반 확보 - SCI 논문 2건 발표 - 장치 및 증착 기술 관련 특허 2건 출원 | ||
| 키워드 | 원자층 증착법, 영역선택, 광화학, 전자소자, 공정기술 | ||
위탁/공동여부 정보
| 단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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기술 정보
| 연구개발단계 | 기초연구 | 산업기술분류 | |
|---|---|---|---|
| 미래유망신기술(6T) | NT(나노기술) | 기술수명주기 | |
| 연구수행주체 | 연 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 재료 > 고분자재료 > 전기/전자정보용 소재기술 |
| 주력산업분류 | 적용분야 | 지식의 진보(비목적연구) | |
| 중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보
| 과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 서울대학교 산학협력단 | 사업자등록번호 | |
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| 연구책임자 | 소속기관명 | 서울대학교 산학협력단 | 사업자등록번호 | |
| 최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
사업비
| 국비 | 59,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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| 비고 | |||