| 연구목표 |
본 세부 과제는 Si 전사 기반의 monolithic 3D (M3D) 플랫폼 구축 및 지속적인 활용을 위한 최적의 아키텍쳐 연구와 풀 웨이퍼 스케일의 대면적 집적 공정 기술의 개발 및 검증을 목표로 함. 상부 소자 저온 공정 기술 개발을 위해, ALD 공정을 이용한 gate-stack 형성 기술, junction 형성을 위한 laser annealing... |
| 연구내용 |
o Si M3D 집적 구현을 위한 단위 공정 및 기반 기술 개발 - 하부 Si CMOS wafer 제작 공정 baseline 확립 - 하부 baseline 공정 성능 평가 및 이를 활용한 M3D용 standard cell 제작 - 상부 Si 소자 구현을 위한 저온 공정 기술 개발 및 상부 소자에 특화된 회로 제작 - M3D bas... |
| 기대효과 |
본 연구는 Si 전사 기반의 M3D 공정의 baseline을 안정화하고, 적합한 단위 공정들을 개발하는 것으로 Si 소자 중심의 M3D 공정 플랫폼 화에 활용 됨. 상부 소자 집적을 위한 저온 공정의 개발은 M3D 연구를 비롯해 반도체 공정에 널리 쓰일 수 있어 기술 이전 등 다양한 방법으로 가치 창출 가능. 연구를 통해 개발된 M3D내 상/하부 단위 소자... |
| 키워드 |
공정 플랫폼,아키텍쳐,저온 공정 기술,대면적 집적 기술,운영 시스템,성능 검증,안정화,범용성 |