| 연구목표 |
high-κ 절연체 터널접합을 활용한 초저전력 complementary 2D-3D TFET를 MOCVD 방식으로 성장한 전이금속 디켈코게나이드 (TMDC) 박막을 활용하여 개발하고, 2D-3D TMDC TFET 기반의 초저전력, 고강건성 집적회로를 wafer 스케일로 구현 및 검증한다. 단일 2D-3D TFET 소자에서는 1) 4 decade 전류영역 s... |
| 연구내용 |
1. high-κ 절연체 터널 배리어를 drain 접합에 이용하고, 2D-3D 전이금속 디칼코게나이드 (TMDC) 물질을 트랜지스터 채널로 활용하여 기존 TFET의 carrier injection mechanism을 보완함으로써 낮은 on 상태 전류, 높은 SS 등의 문제를 해결하고, 초저전력, 고속, complementary TFET를 개발한다. 2. 범... |
| 기대효과 |
본 연구에서 제안하는 연구가 성공하여 SSave_4dec 100μA/μm, VDD < 0.4V 의 고성능 초저전력 complementary 2D-3D TMDC TFET와 그에 기반한 로직 회로 기술을 개발하게 되면 switching 전력소모를 < 0.01 fJ 수준으로 기존 CMOS 기술 대비 10배 이상 줄일 수 있고, switching delay도 1... |
| 키워드 |
전이금속 디칼코게나이드,터널 전계효과 트랜지스터,저전력 집적회로,문턱전압이하 기울기,디지털 로직 회로,감응형 |