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고주파 고출력 통신소자 응용을 위한 대구경 InAlN/GaN heterostructure on Si 에피웨이퍼 개발

작성자

관리자

조회수

57

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 국제공동기술개발
과제 기본정보
과제명 고주파 고출력 통신소자 응용을 위한 대구경 InAlN/GaN heterostructure on Si 에피웨이퍼 개발
과제고유번호 1415177638
부처명 산업통상자원부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2021 총연구기간 2020-12-01 ~ 2023-11-30 당해연도 연구기간 2021-12-01 ~ 2022-11-30
요약 정보
연구목표 [최종목표: ft 250 GHz 이상 고주파 특성을 갖는 대구경 InAlN/GaN on Si 에피소재 및 통신소자 개발]● 6인치 InAlN/GaN on Si 에피웨이퍼 개발● 250 GHz 이상 고주파 특성확보를 위한 에피층 구조 최적화● 소스 드레인 Ohmic 특성개선을 위한 n+GaN regrowth 조건 개발● ft 250 GHz 이상 고주파 특성을...
연구내용 ● IVWorks는 InAlN/GaN heterostructure의 개선된 생산을 달성하기 위해 자사의 독점적인 Hybrid-MBE 기술과 AI Epitaxy 기술을 6“ 고저항성(HR) Si 웨이퍼에 적용한다. TransEON은 InAlN/GaN 구조 위에 강화된 MOS gate stacks을 제조하기 위해 독점적인 atomic-layer 공정 기술을 적...
기대효과 1. 신산업 분야의 핵심 소재 기술 - GaN은 높은 전력 밀도와 전자이동도, 높은 내열 특성과 고온 안정성, 높은 주파대역 등 우수한 물리적 특성을 가진 차세대 반도체 물질로써 5G 이동통신, 무선 전력 전송, 무선 충전, 위성송수신 모듈과 같은 통신소자에 활용된다.- 최근 5G 이동통신 시장 도입에 맞춰 GaN 트랜지스터의 소재인 GaN 에피웨이퍼에 대...
키워드 질화갈륨,통신소자,에피웨이퍼,에피택셜,고주파
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 응용연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) NT(나노기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > 반도체 재료
주력산업분류 적용분야 기타 산업
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 (주)아이브이웍스 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 (주)아이브이웍스 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 이학
사업비
국비 209,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고