| 연구목표 |
● 반도체 공정모니터링에 필요한 대상 가스 3종 가운데, 흡광도가 가장 낮아 측정이 상대적으로 어려운 NH3 가스 1종에 대하여 실험실 수준을 넘어서 제조 현장에서 ppt 급 고감도로 실시간 분석할 수 있는 초고감도 가스 분광분석이 가능한 CRDS 상용화 기술 개발하며, 이를 통해 반도체 공정모니터링 기술시장의 현장 요구를 충족하면서 성능과 가격에서 경쟁력... |
| 연구내용 |
● 외부 공진기 다이오드 레이저(ECDL) 광원개발 및 최적화- 표준 셀 추가를 통한 중심파장 보정 - 정렬 안정화 장치 및 온도조절 장치 최정화를 통한 신뢰도 향상● 안정화 장치가 추가된 소형 CRDS 공진기 가스셀 개발- 설계 최적화를 통한 소형화- 정렬 안정화 및 보정 장치 추가를 통한 신뢰도 향상● 안정화 장치가 추가된 소형 CRDS 분광장치 구축-... |
| 기대효과 |
● 목표 가스 중 상대적으로 측정이 어려운 암모니아에 대한 CRDS 시작품의 제작을 통한 장비의 장기안정화 기술 확립을 통한 상용화 기술 확보하게 되며- 현재 국내의 해당 초고감도 가스 센서 기술은 실험실 연구단계에 머물러 있으나, 측정 결과의 안정성과 신뢰도를 확보, 장비의 크기를 소형화, 가격경쟁력 확보를 통하여 산업 현장에 적용할 수 있게 함.● 시제... |
| 키워드 |
극미량 가스 분석 방법, 공동 링다운 분광법, 반도체 공정실 모니터링, 레이저흡수 분광법,광되먹임 방식의 주파수 잠금 |