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2024-05-21
| 내역사업 | 2019년도 중소기업 기술혁신개발사업(소재·부품·장비분야 추경사업) |
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| 과제명 | 반도체 인라인 wafer 이온(무기)성 오염 측정 설비 개발 | ||||
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| 과제고유번호 | 1425153007 | ||||
| 부처명 | 중소벤처기업부 | ||||
| 시행계획 내 사업명 | |||||
| 시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
| 계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
| 과제수행연도 | 2021 | 총연구기간 | 2019-11-06 ~ 2021-11-05 | 당해연도 연구기간 | 2021-01-01 ~ 2021-11-05 |
| 연구목표 | 반도체 인라인용 wafer내 저농도, 미지의 이온(무기)성 오염 측정 설비 개발 Wafer 표면의 이온성 화학종에 대한 회수 기술 개발 및 이온성 화학종의 반도체 소자 특성에 미치는 영향 규명 미지 시료의 Auto-identification 기술 개발을 위한 IC-MS 기술 개발 | ||
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| 연구내용 | 반도체 인라인용 wafer내 저농도, 미지의 이온(무기)성 오염 측정 설비 개발- 후속 공정을 위한 웨이퍼 세정 및 건조 기술 : Edge-grip non-contact Dry 방식의 건조 기술 : wafer front/back 동시 건조 기술 : 상하부 N2 blow, Wafer Spin 방식 기술 개발 : 이탈감지 Image 센서, 유무감지 센서... | ||
| 기대효과 | 웨이퍼 scan 기술 경쟁력 제고에 따른 요소 기술 개발을 통한 수입 대체 효과 반도체/디스플레이 생산 및 계측 장비 내재화 웨이퍼 표면의 미지 이온 오염 분석 장비의 기술 선점 반도체 생산과정에서 In-Fab 수율 관리 모델 제시 | ||
| 키워드 | 반도체,이온성,오염,이온크로마토그래피,질량분석 | ||
| 단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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| 연구개발단계 | 개발연구 | 산업기술분류 | |
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| 미래유망신기술(6T) | IT(정보기술) | 기술수명주기 | |
| 연구수행주체 | 산 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 전기/전자 > 반도체장비 > 측정/검사장비 |
| 주력산업분류 | 적용분야 | 제조업(전기 및 기계장비) | |
| 중점과학기술분류 | 과제유형 |
| 과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 엔비스아나(주) | 사업자등록번호 | |
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| 연구책임자 | 소속기관명 | 엔비스아나(주) | 사업자등록번호 | |
| 최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
| 국비 | 150,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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| 비고 | |||