| 연구목표 |
○ 금속-유기물 하이브리드 및 유무기 하이브리드 박막 재료와 photoacid generator (PAG)를 하이브리드 하여 BEUV 포토레지스트에 적용하는 실험 디자인 및 아이디어 검증○ 1단계(1.5개월) 예상 주요 결과물: BEUV용 금속-무기물 하이브리드 포토레지스트의 초기 formulation 전략 확보 (PAG 혼합 등) 및 기초적 미세 반도체 ... |
| 연구내용 |
○ 금속 찰코제나이드 나노결정 BEUV 포토레지스트 개발 - 금속 칼코제나이드 MSC를 선택적으로 분리하고, 리간드를 통해 광민감성(photosensitivity)를 부여한다면 1) 작고 균일한 building block, 2) high BEUV absorption, 3) high etch sensitivity 면에서 기존 금속 산화물 포토레지스트와 co... |
| 기대효과 |
○ 광민감 금속-무기물 하이브리드 재료를 이용하여 새로운 타입의 EUV/BEUV lithography용 포토레지스트를 세계 최초로 개발하고, 개발된 기술을 사업화할 수 있는 반도체 소재 기업을 육성하여 미래 반도체 산업의 핵심 지식재산권 및 동력원을 확보하고자 함. 나아가서 빠른 기술사업화를 통해 반도체 산업에서의 다음 단계 Beyond EUV 공정 노드에... |
| 키워드 |
BEUV 포토레지스트,금속 칼코제나이드 나노결정,나노패터닝,금속 유기 프레임워크,저차원 나노물질 |