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μLED 전사 및 반도체 인터포저용 Laser-induced etching 장비 개발

작성자

관리자

조회수

56

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 1단계 R&D 공동기획
과제 기본정보
과제명 μLED 전사 및 반도체 인터포저용 Laser-induced etching 장비 개발
과제고유번호 1425156358
부처명 중소벤처기업부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2021 총연구기간 2021-10-08 ~ 2021-11-21 당해연도 연구기간 2021-10-08 ~ 2021-11-21
요약 정보
연구목표 1. 대면적, 고정밀 LIE 장비 상용화 가능성 검증 - Laser-induced etching 기술 메커니즘 분석 - 기초 광학계 및 장비 제어 시스템 설계/구축2. 반도체 패키징용 유리 인터포저 개발 가능성 검증 - 마이크로홀 유리 인터포저 도금 특성 확인3. 박막 μLED 전사용 마이크로홀 유리 인터포저 개발 가능성 검증 - 진공 흡입력 형성용 유리 ...
연구내용 1. Laser-induced etching 기술 메커니즘 분석 - 레이저 및 엣칭 조건에 따른 가공 특성 분석2. 기초 광학계 및 장비 제어 시스템 설계/구축 - 초정밀 구동 Stage 설계 - LIE 가공용 Laser Beam 집속 광학계 및 Delivery Unit 구축 - 구동부 SW 알고리즘 설계 - Etching Syste...
기대효과 1.기술적 기대효과 - LIE 기반의 고종횡비 유리 인터포저 제작 기술 및 장비 개발에 따른 국산화 및 기술 경쟁력 강화 - 고성능 반도체 패키징용 유리 인터포저 제작 기술 개발에 따른 기술 경쟁력 강화 - LIE 기반 유리 인터포저를 이용한 박막 μLED 전사용 진공 흡입 모듈 원천 기술 확보2.경제적 기대효과 - LIE 기반 유리 인터포저 제작 ...
키워드 레이저 응용 식각 장비,마이크로홀 유리,박막형 Micro LED 전사,유리 인터포저,반도체 패키징
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 개발연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) IT(정보기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 기계 > 정밀생산기계 > 광에너지 응용 가공기계
주력산업분류 적용분야 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국과학기술원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국과학기술원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 15,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고