| 연구목표 |
○ 신규 금속-무기물 하이브리드 EUV/BEUV 포토레지스트 개발 - 고안정성 나노 하이브리드 소재 기반 포토레지스트 잉크 개발 - 패터닝 특성 평가 체계 구축 및 패터닝 공정 기술 확보 - 신규 구조 PAG 분자 설계 |
| 연구내용 |
○ 매직 사이즈 클러스터 (MSC) 합성 및 PAG와 formulation 시 분산 안정성 개선 - 단분산성 ZnS 매직 사이즈 클러스터 합성 및 물성 분석. - ZnS 매직 사이즈 클러스터 기반 균일 나노박막 제작 공정 확립. - MSC-PAG 혼합을 통한 포토레지스트 formulation 및 분산 안정성 개선.○ 2D MOF/COF 합성 및 PAG... |
| 기대효과 |
○ 광민감 금속-무기물 하이브리드 재료를 이용하여 새로운 타입의 EUV/BEUV lithography용 포토레지스트를 세계 최초로 개발하고, 개발된 기술을 사업화할 수 있는 반도체 소재 기업을 육성하여 미래 반도체 산업의 핵심 지식재산권 및 동력원을 확보하고자 함. 나아가서 빠른 기술사업화를 통해 반도체 산업에서의 차세대 EUV 포토레지스트 소재 확보 뿐만... |
| 키워드 |
극자외선 리쏘그래피,포토레지스트,메탈 오가닉 프레임워크,저차원 나노소재,콜로이달 나노결정 |