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μLED 전사 및 반도체 인터포저용 Laser-induced etching 장비 개발

작성자

관리자

조회수

46

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 2단계 전략협력R&D
과제 기본정보
과제명 μLED 전사 및 반도체 인터포저용 Laser-induced etching 장비 개발
과제고유번호 1425157697
부처명 중소벤처기업부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2021 총연구기간 2021-12-20 ~ 2024-12-19 당해연도 연구기간 2021-12-20 ~ 2022-12-19
요약 정보
연구목표 1. Laser-induced etching 공정 기반의 마이크로홀 인터포저 장비 개발 - 위치 정밀도±15㎛ 이내 확보, 마이크로홀 크기 편차 ±10㎛ - 가공 속도 4000홀/s 이상2. 반도체 패키징용 마이크로홀 유리 인터포저 및 패키징 기술 개발 - 최소 홀 직경 25㎛ 이하, 최소 홀 간격 25㎛ 이하3. 박막 μLED 전사용 마이크로홀 ...
연구내용 1. Laser-induced etching 공정 기반의 마이크로홀 인터포저 장비 개발 - 소형기판(150X150mm)에 대응하는 레이저 및 에칭 장비 구축 - 레이저에 의한 소재 modification 특성 및 DOF 확보를 위한 광학계 최적화 - 광학 비전을 이용한 고정밀 제어 알고리즘 개발 - 초음파 에칭 장비의 안전성 및 신뢰성 확보(용액 ...
기대효과 1.기술적 기대효과- LIE 기반의 고종횡비 유리 인터포저 제작 기술 및 장비 개발에 따른 국산화 및 기술 경쟁력 강화- 고성능 반도체 패키징용 유리 인터포저 제작 기술 개발에 따른 기술 경쟁력 강화- LIE 기반 유리 인터포저를 이용한 박막 μLED 전사용 진공 흡입 모듈 원천 기술 확보2.경제적 기대효과- LIE 기반 유리 인터포저 제작 장비의 국내/외...
키워드 레이저 응용 식각 장비,마이크로홀 유리,박막형 Micro LED 전사,유리 인터포저,반도체 패키징
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 개발연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) IT(정보기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 기계 > 정밀생산기계 > 광에너지 응용 가공기계
주력산업분류 적용분야 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국과학기술원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국과학기술원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 194,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고