| 연구목표 |
본 세부 과제는 Si 전사 기반의 monolithic 3D (M3D) 플랫폼 구축 및 지속적인 활용을 위한 최적의 아키텍쳐 연구와 풀 웨이퍼 스케일의 대면적 집적 공정 기술의 개발 및 검증을 목표로 함. 상부 소자 저온 공정 기술 개발을 위해, ALD 공정을 이용한 gate-stack 형성 기술, junction 형성을 위한 laser annealing... |
| 연구내용 |
o Si M3D 집적 구현을 위한 단위 공정 및 기반 기술 개발 - 하부 Si CMOS wafer 제작 공정 개발 - 하부 baseline 공정 성능 평가 및 이를 활용한 M3D용 standard cell 제작 - 상부 Si 소자 구현을 위한 저온 공정 기술 개발 및 상부 소자에 특화된 회로 제작 - M3D용 테스트 패턴 카탈로그 개발 o Si M3... |
| 기대효과 |
연구를 통해 개발된 M3D 공정 및 소자 기술, M3D내 상/하부 단위 소자들을 위한 테스트 패턴과 상하부 연계 배선 공정 기술 등은 M3D 공정을 검증하고 플랫폼 구축을 지원 하는 역할을 할 뿐 아니라, 추후 확장될 다양한 M3D 응용 분야의 시스템 설계 연구자들의 reference로 활용될 수 있음. |
| 키워드 |
공정 플랫폼,아키텍쳐,저온 공정 기술,대면적 집적 기술,운영 시스템,성능 검증,안정화,범용성 |