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비맥스웰 전자속도분포의 제어와 저온 플라즈마 거동에 미치는 영향 연구

작성자

관리자

조회수

44

등록일

2024-05-22

사업 정보
내역사업 (유형1-2)중견연구
과제 기본정보
과제명 비맥스웰 전자속도분포의 제어와 저온 플라즈마 거동에 미치는 영향 연구
과제고유번호 1711132290
부처명 과학기술정보통신부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2021 총연구기간 2021-03-01 ~ 2026-02-28 당해연도 연구기간 2021-03-01 ~ 2022-02-28
요약 정보
연구목표 원통형(길이:2m, 지름:0.6m) 진공챔버 내에서 생성된 저충돌 저온 플라즈마의 비맥스웰 전자속도분포에 관한 포괄적인 이해를 증진하기 위해 전자 표류운동을 유도하여 전자속도분포의 왜도(skewness: 3rd moment)와 첨도(kurtosis: 4th moment)를 측정, 제어 및 해석할 수 있는 기술을 개발하고, 이를 기반으로 비맥스웰 전자가 플라...
연구내용 비맥스웰 전자속도분포의 왜도와 첨도 제어 및 측정 기술 확보와 물리연구 수행 기반 구축을 목표로 다음의 연구내용을 수행한다.[측정기법 1차년도] (1) 기존의 랑뮤어프로브 해석 기법을 확장하여 왜도와 첨도를 포함한 비맥스웰 전자에 적용 가능한 데이터 해석 기법 기반 확보, (2) 타진단계(톰슨산란, 충돌방사모델 기반 광방출분광법)와의 교차 검증 기반 확보[...
기대효과 [기술적 기대효과] 전자 속도분포 측정 및 제어 기술을 활용한 플라즈마 응용 분야의 새로운 도약 견인: (1) 차세대 반도체 공정기술로 인지되는 전자를 이용한 원자층 식각 기술에 전자 속도분포 측정·제어 기술의 높은 활용도가 기대된다. (2) 인공위성, 우주탐사선 등에 탑재된 홀 추력기의 성능을 저해하는 요인인 여러 플라즈마 불안정성은 전자 속도분포와 밀접...
키워드 저온플라즈마,비맥스웰리안,전자속도분포,왜도,첨도,grad-B 표류운동,curvature 표류운동,제어
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 기초연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) 기타 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 자연 > 물리학 > 유체·플라즈마물리 > 플라즈마 물리
주력산업분류 적용분야 지식의 진보(비목적연구)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국과학기술원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국과학기술원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 이학
사업비
국비 207,735,000 지방비(현금+현물) 0
비고