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수직 적층형 인공신경망 칩 개발을 위한 CMOS 공정 플랫폼 개발 및 집적회로 제작

작성자

관리자

조회수

76

등록일

2024-05-22

사업 정보
내역사업 신소자집적검증기술개발
과제 기본정보
과제명 수직 적층형 인공신경망 칩 개발을 위한 CMOS 공정 플랫폼 개발 및 집적회로 제작
과제고유번호 1711134803
부처명 과학기술정보통신부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2021 총연구기간 2021-04-09 ~ 2023-12-31 당해연도 연구기간 2021-04-09 ~ 2021-12-31
요약 정보
연구목표 본 연구는 신경모방 시냅스 기반의 인공지능 반도체 회로 위에 시냅스 어레이를 수직으로 적층해냄으로써 인공지능 칩의 집적도를 획기적으로 향상시키기 위한 시냅스 구동용 CMOS 회로 제작, 시냅스 소자의 수직 적층용 CMOS/시냅스 인터페이스 공정 개발, 확립된 시냅스 적층용 CMOS 집적 플랫폼의 활용을 위한 PDK 확립 등을 목표로 함
연구내용 수직 적층형 인공신경망 구현을 위한 0.5μm CMOS 소자 공정 및 집적 플랫폼 개발, CMOS 설계를 위한 SPICE 파라미터와 디자인 룰 등을 포함하는 PDK (Process Development Kit) 개발 및 이를 기반으로 하는 시냅스 칩용 로직 및 아날로그 회로 제작. 세부 연구개발 내용으로는 0.5μm 로직/아날로그 CMOS 소자 개발 (3....
기대효과 본 과제를 통해 개발되는 적층형 시냅스용 CMOS 집적 기술과 시냅스/CMOS 집적 공정 플랫폼 등의 결과물은 인공지능 반도체 연구를 실험적으로 제작 검증할 수 있는 플랫폼을 제공할 수 있음. 이를 통해 국내 인공지능 연구 및 관련 반도체 설계자와 인공지능 소자 연구자들의 인공지능 반도체 분야에 대한 파일롯 검증 환경도 제공할 수 있을 것으로 예상됨
키워드 상보형 트랜지스터,시냅스,삼차원 적층,인터페이스 공정,집적회로,공정개발키트,아날로그 집적회로,공정 플랫폼
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 개발연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) IT(정보기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > Si 소자
주력산업분류 적용분야 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국전자통신연구원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국전자통신연구원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 750,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고