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영역 선택적 원자층 증착법을 위한 유기금속전구체 소재 기술 개발

작성자

관리자

조회수

43

등록일

2024-05-22

사업 정보
내역사업 국가핵심소재연구단(특화형)
과제 기본정보
과제명 영역 선택적 원자층 증착법을 위한 유기금속전구체 소재 기술 개발
과제고유번호 1711135038
부처명 과학기술정보통신부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2021 총연구기간 2021-04-26 ~ 2023-12-31 당해연도 연구기간 2021-04-26 ~ 2021-12-31
요약 정보
연구목표 ○ 차세대 반도체를 제조하기에 필수적으로 필요한 기술인 영역 선택적 원자층 증착법을 위한 신규 유기금속 전구체 합성 기술을 개발함. 이를 위해 인히비터로 비활성화된 표면에 흡착하지 않는 리간드들을 개발하고, 이 리간드에 금속박막용 물질과 금속 산화물 증착용 물질을 합성하여 각각의 유기 금속 전구체 개발을 진행한다. 또한 이렇게 개발한 전구체를 이용해 원자층...
연구내용 1. 차세대 영역 선택적 원자층 증착용 신규 유기금속 전구체 개발 - 표면 선택성 있는 리간드 개발 ≥ 4건 - Ru, Mo 금속 증착용 전구체 합성 ≥ 6종 - Hf, Zr 산화물 증착용 전구체 합성 ≥ 6종 - 원자층 증착에 적합한 특성 확보 : 증기압 ≥ 0.05 Torr @ 60 ℃, 전구체 순도 ≥ 99.99% 전구체 안정성 ≥ 12...
기대효과 ○ 차세대 영역 선택적 원자층 증착용 유기금속 전구체 소재를 개발함으로써 기존 증착 소재를 통해 얻을 수 없었던 미세화되고 복잡한 구조에서 공정 마진을 높이고, 단계를 줄이게 함으로써 차세대 반도체 개발 과정에서 발생하는 기술적 장벽을 낮춰 메모리 반도체 분야 주도권을 유지함과 동시에 SYSTEM IC분야에서도 주도권을 획득.○ 일본, 미국, 및 유럽 선진...
키워드 영역 선택적,원자층 증착법,금속막,산화물막,화학소재,유기금속,반도체,인히비터
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 개발연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) IT(정보기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 재료 > 열/표면처리 > 박막제조기술
주력산업분류 적용분야 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국화학연구원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국화학연구원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 225,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고