과제 상세정보
목록머신러닝을 이용한 반도체 리소그래피 해상도향상기술에 관한 연구
작성자
관리자
조회수
42
등록일
2024-05-22
사업 정보
| 내역사업 | (유형1-2)중견연구 |
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과제 기본정보
| 과제명 | 머신러닝을 이용한 반도체 리소그래피 해상도향상기술에 관한 연구 | ||||
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| 과제고유번호 | 1711145587 | ||||
| 부처명 | 과학기술정보통신부 | ||||
| 시행계획 내 사업명 | |||||
| 시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
| 계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
| 과제수행연도 | 2021 | 총연구기간 | 2019-03-01 ~ 2024-02-29 | 당해연도 연구기간 | 2021-03-01 ~ 2022-02-28 |
요약 정보
| 연구목표 | 반도체 공정과정에서 포토마스크 제작은 비용 및 시간면에서 ~60%를 차지할 정도로 중요하다. 본 연구에서는 최신 포토마스크 제작의 핵심인 해상도향상기술 (RET: Resolution Enhancement Techniques)에 머신러닝을 적용하여 기존 대비 30% 향상된 패턴 충실도와 5배 빠른 연산 속도를 얻고자 한다. 이를 통해 반도체 공정 비용 및 시... | ||
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| 연구내용 | 반도체 공정에서는 최종적으로 웨이퍼에 식각 된 패턴이 타겟 패턴 (즉, design의 layout)과 동일한 모양이 되는 것을 목표로 한다. 하지만, 노광 과정에서는 광학 회절 효과로, 식각 단계에서는 loading effect로 인해서 다른 패턴이 나오게 된다. 이러한 점을 보정하기 위해 해상도향상기술 (RET)로써 식각 단계를 보정하는 EPC, 회절... | ||
| 기대효과 | ■ 본 연구에서 제안된 머신러닝 기반 RET의 연구 목표 (패턴 충실도 30% 향상, 소요시간 5배 단축)을 달성하는 경우 chip 제작 비용을 23% 절감 가능함.−10nm 공정 기준, RET가 전체 반도체 공정 비용에서 25%를 차지하고 있음. 이의 비율은 공정이 미세화 됨에 따라 증가하는 추세임.−RET에서 발생된 오차는 반도체 공정의 수율에 영향을 ... | ||
| 키워드 | 리소그래피,기계학습,광학 근접 보정,인공신경망,반도체 공정,식각과정,포토마스크,전자설계자동화,생산적 모델 | ||
위탁/공동여부 정보
| 단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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기술 정보
| 연구개발단계 | 기초연구 | 산업기술분류 | |
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| 미래유망신기술(6T) | IT(정보기술) | 기술수명주기 | |
| 연구수행주체 | 학 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > 설계 Tool |
| 주력산업분류 | 적용분야 | 전문, 과학 및 기술서비스업 | |
| 중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보
| 과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 한국과학기술원 | 사업자등록번호 | |
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| 연구책임자 | 소속기관명 | 한국과학기술원 | 사업자등록번호 | |
| 최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
사업비
| 국비 | 190,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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| 비고 | |||