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2024-05-22
내역사업 | 국제공동기술개발 |
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과제명 | 고주파 고출력 통신소자 응용을 위한 대구경 InAlN/GaN heterostructure on Si 에피웨이퍼 개발 | ||||
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과제고유번호 | 1415183502 | ||||
부처명 | 산업통상자원부 | ||||
시행계획 내 사업명 | |||||
시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
과제수행연도 | 2022 | 총연구기간 | 2020-12-01 ~ 2023-11-30 | 당해연도 연구기간 | 2022-12-01 ~ 2022-12-31 |
연구목표 | [최종목표: ft 250 GHz 이상 고주파 특성을 갖는 대구경 InAlN/GaN on Si 에피소재 및 통신소자 개발]● 6인치 InAlN/GaN on Si 에피웨이퍼 개발● 250 GHz 이상 고주파 특성확보를 위한 에피층 구조 최적화● 소스 드레인 Ohmic 특성개선을 위한 n+GaN regrowth 조건 개발● ft 250 GHz 이상 고주파 특성을... | ||
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연구내용 | ● IVWorks는 InAlN/GaN heterostructure의 개선된 생산을 달성하기 위해 자사의 독점적인 Hybrid-MBE 기술과 AI Epitaxy 기술을 6“ 고저항성(HR) Si 웨이퍼에 적용한다. TransEON은 InAlN/GaN 구조 위에 강화된 MOS gate stacks을 제조하기 위해 독점적인 atomic-layer 공정 기술을 적... | ||
기대효과 | 1. 신산업 분야의 핵심 소재 기술 - GaN은 높은 전력 밀도와 전자이동도, 높은 내열 특성과 고온 안정성, 높은 주파대역 등 우수한 물리적 특성을 가진 차세대 반도체 물질로써 5G 이동통신, 무선 전력 전송, 무선 충전, 위성송수신 모듈과 같은 통신소자에 활용된다.- 최근 5G 이동통신 시장 도입에 맞춰 GaN 트랜지스터의 소재인 GaN 에피웨이퍼에 대... | ||
키워드 | 고주파,에피택셜,에피웨이퍼,통신소자,질화갈륨 |
단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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연구개발단계 | 개발연구 | 산업기술분류 | |
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미래유망신기술(6T) | NT(나노기술) | 기술수명주기 | |
연구수행주체 | 산 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 전기/전자 > 반도체소자·회로 > 화합물소자 |
주력산업분류 | 적용분야 | 기타 산업 | |
중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | (주)아이브이웍스 | 사업자등록번호 | |
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연구책임자 | 소속기관명 | (주)아이브이웍스 | 사업자등록번호 | |
최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 이학 |
국비 | 282,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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비고 |