| 연구목표 |
● 반도체 공정 모니터링에 필요한 3종의 분석대상 가스들 모두에 대하여 동시에 목표 분석능력을 구현하는 소형화된 통합 가스 분광분석 장치 시제품 개발 및 성능 검증- 대상 가스에 따른 분석 감도 : HF: 30 ppt, HCl: 50 ppt, NH3: 50 ppt - 측정 시간 : 10 초- 측정 범위 : 분석 감도에서 1ppm까지- 정확도 : 측정값의 ... |
| 연구내용 |
● 각각 3 종의 가스 분석에 최적화된 파장 갖는 ECDL 3 개 이상 개발- 시료의 고유 흡수 밴드 파장과 간섭물질의 흡수 파장등을 고려하여 각각 ECDL광원 개발- 1차 개발 결과를 기반으로 개발시 단시간내에 개발이 가능할 것으로 예상됨● 소형화 CRDS 공진기 가스셀 3 개 이상 개발- 공진기를 구성하는 고반사율 거울 또한 목표 시료의 흡수 밴드의 파... |
| 기대효과 |
● 다중가스(HF, HCl, NH3)에 대해 실시간으로 ppt 급의 초고감도 측정기술 확보를 통해서 반도체 공정 모니터링를 효과적으로 진행할 수 있게 됨에 따라서 반도체 생산 수율의 향상 및 반도체 공정의 고도화 가능할 것으로 보임.● ppt 급의 초고감도 측정기술의 국산화를 통해서 각각의 공정에 특화된 장비를 빠른 시간에 제작할 수 있는 토대를 마련하였음... |
| 키워드 |
극미량 가스 분석 방법, 공동 링다운 분광법, 반도체 공정실 모니터링, 레이저흡수 분광법,광되먹임 방식의 주파수 잠금 |