과제 상세정보
목록저온 경화형 포지티브 포토레지스트 개발
작성자
관리자
조회수
128
등록일
2024-05-22
사업 정보
| 내역사업 | 중소기업R&D기획지원 |
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과제 기본정보
| 과제명 | 저온 경화형 포지티브 포토레지스트 개발 | ||||
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| 과제고유번호 | 1425169706 | ||||
| 부처명 | 중소벤처기업부 | ||||
| 시행계획 내 사업명 | |||||
| 시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
| 계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
| 과제수행연도 | 2022 | 총연구기간 | 2022-10-28 ~ 2023-01-27 | 당해연도 연구기간 | 2022-10-28 ~ 2023-01-27 |
요약 정보
| 연구목표 | 90도 이하에서 저온 경화가 가능하고, 고해상도 구현이 가능한 포지티브 타입의 포토레지스트 개발을 목표로 함. | ||
|---|---|---|---|
| 연구내용 | 포지티브 포토레지스트의 기본적인 컨셉을 기초로 저온 경화가 가능하도록 재료를 변경하고 조합하여 개발이 가능하다고 판단하고,구현하고자 하는 패턴의 해상도가 마이크로미터 수준이므로 노광 영역은 i-line(350~400nm) 으로 설정하여 조성물을 설계하였다.재료를 검토하는 단계에 있으며, 간이 테스트를 통해 현재 몇 가지 후보 물질들을 확보하였다.이를 조성물... | ||
| 기대효과 | 90도 이하의 온도에서 저온 경화가 가능하므로 내열성이 낮아 고온 프로세싱이 불가능한 OLED 셀의 외부에 광추출 기능의 마이크로 렌즈를 포토 공정으로 한번에 형성이 가능하고, 이를 통해 패널의 효율을 증가시킬 수 있다. 기존의 3단계 이상에 걸친 마이크로 렌즈 공정을 한 단계로 줄일 수 있어 공정 효율성에도 기여하는 바가 클 것으로 예상하고 있다.중소형... | ||
| 키워드 | 저온 경화,포지티브,감광재,포토레지스트 | ||
위탁/공동여부 정보
| 단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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기술 정보
| 연구개발단계 | 개발연구 | 산업기술분류 | |
|---|---|---|---|
| 미래유망신기술(6T) | 기타 | 기술수명주기 | |
| 연구수행주체 | 산 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 화공 > 정밀화학 > 감광재료 |
| 주력산업분류 | 적용분야 | 기타 산업 | |
| 중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보
| 과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | ACM | 사업자등록번호 | |
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| 연구책임자 | 소속기관명 | ACM | 사업자등록번호 | |
| 최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
사업비
| 국비 | 5,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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| 비고 | |||