| 연구목표 |
○ 신규 금속-무기물 하이브리드 EUV/BEUV 포토레지스트 개발 및 패터닝 공정 최적화 - 신규 무기 포토레지스트: 소재 품질 균일화, 분산 안정화 및 성능 개선 - EUV/BEUV 맞춤형 PAG 소재 합성 - 패터닝 메커니즘 분석을 통한 합성 및 패터닝 공정 최적화 |
| 연구내용 |
○ 0D MSC-PAG 기반 EUV 포토레지스트의 패터닝 메커니즘 분석 - PAG의 광화학 반응에 따른 매직 사이즈 클러스터의 표면 및 용해도 변화 분석. - MSC의 리간드 및 PAG 종류, 농도에 따른 포토레지스트 성능 변화 분석 및 최적화.○ 2D MOF/COF - PAG 기반 EUV 포토레지스트의 패터닝 메커니즘 분석 - PAG의 광화학 반응에... |
| 기대효과 |
○ 광민감 금속-무기물 하이브리드 재료를 이용하여 새로운 타입의 EUV/BEUV lithography용 포토레지스트를 세계 최초로 개발하고, 개발된 기술을 사업화할 수 있는 반도체 소재 기업을 육성하여 미래 반도체 산업의 핵심 지식재산권 및 동력원을 확보하고자 함. 나아가서 빠른 기술사업화를 통해 반도체 산업에서의 차세대 EUV 포토레지스트 소재 확보 뿐만... |
| 키워드 |
극자외선 리쏘그래피,포토레지스트,메탈 오가닉 프레임워크,저차원 나노소재,콜로이달 나노결정 |