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2024-05-22
내역사업 | 네트워크형기술개발사업(네트워크 기획) |
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과제명 | 고온, 고농도 오존수 (80℃, 80ppm)를 이용한 세정장비 개발(HDI PR 제거) | ||||
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과제고유번호 | 1425171151 | ||||
부처명 | 중소벤처기업부 | ||||
시행계획 내 사업명 | |||||
시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
과제수행연도 | 2022 | 총연구기간 | 2022-02-15 ~ 2022-07-14 | 당해연도 연구기간 | 2022-02-15 ~ 2022-07-14 |
연구목표 | ■ 저온 저압 Plasma 와 고온 고농도 오존수를 이용하여 고농도 이온 주입 포토 레지스트 (HDI (High-Dose Ion-Implanted) Photoresist)를 제거할 수 있는 세정 장비를 개발하고자 함■ 오존수 공급장치 (고농도(80PPM이상), 고온(80℃이상))를 개발 - 오존 발생장치 방식 : 평판형 무성 방정식 - 오존 발생량... | ||
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연구내용 | ■ 1차년도 - 주관기관 - (주)플렉스 : PR Strip 장비 설계 - 기술개발 공동개발기관 - (주)쎄타텍 : 고온 고농도 오존수 공급장치 개발 - 사업화 공동개발기관 - (주)디에어 : PR Strip 장비 / 오존수 공급 장치 Program 개발 ■ 2차년도 - 주관기관 - (주)플렉스 : PR Strip 장비 설계 보안, Sample Waf... | ||
기대효과 | ■ 본 개발을 통하여 당사가 주력하는 반도체 분야 및 오존수 제조 분야에서 고효율 오존발생기 시장 진출이 가능하고 나아가서는 축산 및 식품가공용 신제품 개발 등에 다양하게 활용이 가능함■ 시설원예농가를 중심으로 오존발생기를 출시하여 판매 예정이며 핵심원천기술이라 할 수 있는 오존 세정 장비를 자체 개발함으로서 제품의 기술 향상 및 판로확대를 ... | ||
키워드 | 오존수, 플라즈마, 챔버, 세정공정, 포토레지스트리 |
단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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연구개발단계 | 개발연구 | 산업기술분류 | |
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미래유망신기술(6T) | 기타 | 기술수명주기 | |
연구수행주체 | 산 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 기계 > 기타기계 > 달리 분류되지 않는 기계 |
주력산업분류 | 적용분야 | 기타 산업 | |
중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | (주)디에어 | 사업자등록번호 | |
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연구책임자 | 소속기관명 | (주)디에어 | 사업자등록번호 | |
최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
국비 | 30,000,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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비고 |