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고온, 고농도 오존수 (80℃, 80ppm)를 이용한 세정장비 개발(HDI PR 제거)

작성자

관리자

조회수

64

등록일

2024-05-22

사업 정보
내역사업 네트워크형기술개발사업(네트워크 기획)
과제 기본정보
과제명 고온, 고농도 오존수 (80℃, 80ppm)를 이용한 세정장비 개발(HDI PR 제거)
과제고유번호 1425171151
부처명 중소벤처기업부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2022 총연구기간 2022-02-15 ~ 2022-07-14 당해연도 연구기간 2022-02-15 ~ 2022-07-14
요약 정보
연구목표 ■ 저온 저압 Plasma 와 고온 고농도 오존수를 이용하여 고농도 이온 주입 포토 레지스트 (HDI (High-Dose Ion-Implanted) Photoresist)를 제거할 수 있는 세정 장비를 개발하고자 함■ 오존수 공급장치 (고농도(80PPM이상), 고온(80℃이상))를 개발 - 오존 발생장치 방식 : 평판형 무성 방정식 - 오존 발생량...
연구내용 ■ 1차년도 - 주관기관 - (주)플렉스 : PR Strip 장비 설계 - 기술개발 공동개발기관 - (주)쎄타텍 : 고온 고농도 오존수 공급장치 개발 - 사업화 공동개발기관 - (주)디에어 : PR Strip 장비 / 오존수 공급 장치 Program 개발 ■ 2차년도 - 주관기관 - (주)플렉스 : PR Strip 장비 설계 보안, Sample Waf...
기대효과 ■ 본 개발을 통하여 당사가 주력하는 반도체 분야 및 오존수 제조 분야에서 고효율 오존발생기 시장 진출이 가능하고 나아가서는 축산 및 식품가공용 신제품 개발 등에 다양하게 활용이 가능함■ 시설원예농가를 중심으로 오존발생기를 출시하여 판매 예정이며 핵심원천기술이라 할 수 있는 오존 세정 장비를 자체 개발함으로서 제품의 기술 향상 및 판로확대를 ...
키워드 오존수, 플라즈마, 챔버, 세정공정, 포토레지스트리
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 개발연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) 기타 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 기계 > 기타기계 > 달리 분류되지 않는 기계
주력산업분류 적용분야 기타 산업
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 (주)디에어 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 (주)디에어 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 30,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고