과제 상세정보
목록초미세 오염물 제거를 위한 능동정전식 나노튜브 세정브러쉬
작성자
관리자
조회수
48
등록일
2024-05-22
사업 정보
| 내역사업 | 중견연계 신진후속 |
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과제 기본정보
| 과제명 | 초미세 오염물 제거를 위한 능동정전식 나노튜브 세정브러쉬 | ||||
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| 과제고유번호 | 1711156385 | ||||
| 부처명 | 과학기술정보통신부 | ||||
| 시행계획 내 사업명 | |||||
| 시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
| 계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
| 과제수행연도 | 2022 | 총연구기간 | 2022-03-01 ~ 2025-02-28 | 당해연도 연구기간 | 2022-03-01 ~ 2023-02-28 |
요약 정보
| 연구목표 | 본 연구는 반도체 미세화 기술에 대응할 수 있는 복합나노튜브 세정브러쉬 제작기술을 확보하고, 이를 활용한 초미세오염물의 능동 정전 방식의 스크러빙 세정공정기술 개발을 최종 목표로 함. 제안된 세정 기술은 브러쉬 표면에 수직정렬된 탄소나노튜브(CNT)를 표면에 배열시킨 후 절연코팅을 한 나노복합다공성 세정브러쉬를 활용하여 초미세 오염물에 대한 물리적 세정뿐만... | ||
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| 연구내용 | ◆ 1차년도: 나노튜브 세정브러쉬 제작 기술 확보① Single-walled CNT (SWCNT) 합성을 통한 미세 구조물 제작 시스템 구축 i. SWCNT를 수직정렬시켜 박막 형태 혹은 5-100 마이크로미터 크기의 미세구조물들이 배열된 형태로 합성할 수 있는 자체 화학기상증착(CVD) 시스템 구축ii. 직경 2-3 nm의 SWCNT들이 10-50 nm ... | ||
| 기대효과 | 본 연구 과제를 통해 신개념 세정 브러쉬의 개발이 실현될 경우 전하 크기 제어를 통해 선폭 크기에 따라 필요로 하는 최적의 세정력을 적용할 수 있으며 이는 선폭의 크기가 보다 감소할지라도 대응할 수 있으므로 세정 공정에서 해결하지 못한 한계점을 극복할 수 있음. 또한 본 기술은 반도체 제조 공정 뿐만 아니라 오염물질 제거를 필요로 하는 다양한 산업 분야에서... | ||
| 키워드 | 세정 기술,초미세 파티클,탄소나노튜브,포스트 CMP,세정브러쉬,반도체 세정 | ||
위탁/공동여부 정보
| 단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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기술 정보
| 연구개발단계 | 기초연구 | 산업기술분류 | |
|---|---|---|---|
| 미래유망신기술(6T) | NT(나노기술) | 기술수명주기 | |
| 연구수행주체 | 학 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 전기/전자 > 반도체장비 > 세정장비 |
| 주력산업분류 | 적용분야 | 제조업(전기 및 기계장비) | |
| 중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보
| 과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 한국과학기술원 | 사업자등록번호 | |
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| 연구책임자 | 소속기관명 | 한국과학기술원 | 사업자등록번호 | |
| 최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
사업비
| 국비 | 193,669,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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| 비고 | |||