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high-κ 절연체 터널장벽을 활용한 초저전력 2D-3D 전이금속 디켈코게나이드 초저전력 TFET와 로직 회로의 개발

작성자

관리자

조회수

191

등록일

2024-05-22

사업 정보
내역사업 신소자원천기술개발
과제 기본정보
과제명 high-κ 절연체 터널장벽을 활용한 초저전력 2D-3D 전이금속 디켈코게나이드 초저전력 TFET와 로직 회로의 개발
과제고유번호 1711156971
부처명 과학기술정보통신부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2022 총연구기간 2020-07-01 ~ 2023-02-28 당해연도 연구기간 2022-01-01 ~ 2023-02-28
요약 정보
연구목표 high-κ 절연체 터널접합을 활용한 초저전력 complementary 2D-3D TFET를 MOCVD 방식으로 성장한 전이금속 디켈코게나이드 (TMDC) 박막을 활용하여 개발하고, 2D-3D TMDC TFET 기반의 초저전력, 고강건성 집적회로를 wafer 스케일로 구현 및 검증한다. 단일 2D-3D TFET 소자에서는 1) 4 decade 전류영역 s...
연구내용 1. high-κ 절연체 터널 배리어를 drain 접합에 이용하고, 2D-3D 전이금속 디칼코게나이드 (TMDC) 물질을 트랜지스터 채널로 활용하여 기존 TFET의 carrier injection mechanism을 보완함으로써 낮은 on 상태 전류, 높은 SS 등의 문제를 해결하고, 초저전력, 고속, complementary TFET를 개발한다. 2. 범...
기대효과 본 연구에서 제안하는 연구가 성공하여 SSave_4dec 100μA/μm, VDD < 0.4V 의 고성능 초저전력 complementary 2D-3D TMDC TFET와 그에 기반한 로직 회로 기술을 개발하게 되면 switching 전력소모를 < 0.01 fJ 수준으로 기존 CMOS 기술 대비 10배 이상 줄일 수 있고, switching delay도 1...
키워드 전이금속 디칼코게나이드,터널 전계효과 트랜지스터,저전력 집적회로,문턱전압이하 기울기,디지털 로직 회로,감응형
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 기초연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) NT(나노기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 자연 > 물리학 > 응집물질물리 > 반도체
주력산업분류 적용분야 제조업(전자부품,컴퓨터,영상,음향및통신장비)
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 한국과학기술원 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 한국과학기술원 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 이학
사업비
국비 1,300,000,000 지방비(현금+현물) 0
비고