과제 상세정보
목록이차원 수평초격자기반 sub-1nm scale 선택성장기술 개발
작성자
관리자
조회수
192
등록일
2024-05-22
사업 정보
| 내역사업 | 도전형 |
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과제 기본정보
| 과제명 | 이차원 수평초격자기반 sub-1nm scale 선택성장기술 개발 | ||||
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| 과제고유번호 | 1711158116 | ||||
| 부처명 | 과학기술정보통신부 | ||||
| 시행계획 내 사업명 | |||||
| 시행계획 내 사업유형 | 예산출처지역 | 대전광역시 | 사업수행지역 | 대전광역시 | |
| 계속/신규 과제구분 | 신규과제 | ||||
| 과제수행연도 | 2022 | 총연구기간 | 2022-01-01 ~ 2025-12-31 | 당해연도 연구기간 | 2022-01-01 ~ 2022-12-31 |
요약 정보
| 연구목표 | 본 과제는 이차원 수평초격자를 이용하여 sub-1nm 이하의 선폭을 가지는 ALD 선택성장 기술개발을 목표한다. 이차원 물질이 가지는 독특한 수평 성장 메커니즘을 이용해 수평초격자를 구현할 수 있고 dangling bond가 없는 이차원 물질 표면에 ALD 성장이 일어나지 않는 현상을 이용하는 것이 핵심 아이디어이다. 기존 광패터닝의 회절 한계에 제한받지 ... | ||
|---|---|---|---|
| 연구내용 | (1) MoS2, MoSe2 등의 이차원 물질은 결정구조가 층상구조를 가져 수평 성장이 열역학적으로 선호되는 특이한 물질이다. 이를 이용하여 본 연구진에서 이차원 수평초격자 구조를 구현한 바 있다 (Science 2018). 이러한 수평초격자의 패턴 폭의 최소 간격은 unit cell의 금속원자와 금속 원자 간 거리인 0.57nm로 예상한다.(2) 이차원 ... | ||
| 기대효과 | 현재 리소그래피의 광학 소스가 가진 물리적 한계와 제반 공정 설계의 한계로 인한 해상도의 한계를 본 연구팀이 제시하는 방법이 지니는 물리적 한계, 즉 unit cell 크기의 한계치로 대체한다면 매우 큰 폭의 해상도 증진을 이뤄낼 수 있고 차세대 패터닝 기술로 적용될 수 있다고 기대한다. 본 연구로 개발될 초미세 나노패턴을 기반하여 아래와 같은 후속 공정 ... | ||
| 키워드 | 이차원,수평초격자,리소그래피,선택성장,원자층증착,저전력소자,상변화,강유전 | ||
위탁/공동여부 정보
| 단독연구 | 기업 | 대학 | 국공립(연)/출연(연) | 외국연구기관 | 기타 |
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기술 정보
| 연구개발단계 | 응용연구 | 산업기술분류 | |
|---|---|---|---|
| 미래유망신기술(6T) | NT(나노기술) | 기술수명주기 | |
| 연구수행주체 | 학 | 과학기술표준분류 | 인공물 > 재료 > 열/표면처리 > 박막제조기술 |
| 주력산업분류 | 적용분야 | 기타 공공목적 | |
| 중점과학기술분류 | 과제유형 |
과제수행기관(업) 정보
| 과제수행기관(업) 정보 | 과제수행기관(업)명 | 한국과학기술원 | 사업자등록번호 | |
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| 연구책임자 | 소속기관명 | 한국과학기술원 | 사업자등록번호 | |
| 최종학위 | 박사 | 최종학력전공 | 공학 |
사업비
| 국비 | 491,750,000 | 지방비(현금+현물) | 0 |
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| 비고 | |||