지식재산권 상세
목록고분자 전해질, 이를 이용하여 제조된 고분자 전해질 박막 및 이의 용도
작성자
관리자
조회수
31
등록일
2024-04-11
지식재산권 상세정보
| 과제 | 고감도 가스센서 소재 및 신개념 센서소자 개발 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 지식재산권명 | 고분자 전해질, 이를 이용하여 제조된 고분자 전해질 박막 및 이의 용도 | ||||
| 성과고유번호 | pub-2020-0000000739 | 성과발생연도 | 2020 | 국내외구분 | 국내 |
| 출원/등록번호 | 10-2020-0001895 | 출원/등록일자 | 2020-01-07 | 출원/등록기관 | 한국화학연구원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 | 특허유형 | 특허 | 출원/등록구분 | 등록 | |
| 기여율 | 20.0 % | 공개여부 | 공개 | ||
| 증빙자료 | |||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-04-11 PM 02시 17분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 33분 | ||
지식재산권 원문