PLANAR-TYPE PLASMA DIAGNOSIS APPARATUS, WAFER-TYPE PLASMA DIAGNOSIS APPARATUS IN WHICH PLANAR-TYPE PLASMA DIAGNOSIS
지식재산권 상세정보
| 과제 |
오염입자 및 고에너지 플라즈마 내구성 평가 표준화 기술 개발 |
| 지식재산권명 |
PLANAR-TYPE PLASMA DIAGNOSIS APPARATUS, WAFER-TYPE PLASMA DIAGNOSIS APPARATUS IN WHICH PLANAR-TYPE PLASMA DIAGNOSIS |
| 성과고유번호 |
PTR-2020-00211508354 |
성과발생연도 |
2020 |
국내외구분 |
국외 |
| 출원/등록번호 |
10-2020-0139605 |
출원/등록일자 |
2020-10-26 |
출원/등록기관 |
한국표준과학연구원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 |
|
특허유형 |
특허 |
출원/등록구분 |
출원 |
| 기여율 |
50.0 % |
공개여부 |
공개 |
| 증빙자료 |
|
| 최초등록 |
관리자,
2024-04-11 PM 02시 20분
|
최종수정 |
관리자,
2024-10-24 PM 01시 34분
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지식재산권 상세정보
| 과제 |
오염입자 및 고에너지 플라즈마 내구성 평가 표준화 기술 개발 |
| 지식재산권명 |
PLANAR-TYPE PLASMA DIAGNOSIS APPARATUS, WAFER-TYPE PLASMA DIAGNOSIS APPARATUS IN WHICH PLANAR-TYPE PLASMA DIAGNOSIS |
| 성과고유번호 |
PTR-2020-00211508354 |
| 성과발생연도 |
2020 |
| 국내외구분 |
국외 |
| 출원/등록번호 |
10-2020-0139605 |
| 출원/등록일자 |
2020-10-26 |
| 출원/등록기관 |
한국표준과학연구원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 |
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| 특허유형 |
특허 |
| 출원/등록구분 |
출원 |
| 기여율 |
50.0 % |
| 공개여부 |
공개 |
| 증빙자료 |
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| 최초등록 |
관리자,
2024-04-11 PM 02시 20분
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| 최종수정 |
관리자,
2024-10-24 PM 01시 34분
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