비평면 박막트렌지스터 전극을 이용한 디스플레이 백플레인 구조 및 제조 방법
지식재산권 상세정보
| 과제 |
초고해상도/초유연 TFT 소재평가 플랫폼 구축 및 백플레인 기술 개발 |
| 지식재산권명 |
비평면 박막트렌지스터 전극을 이용한 디스플레이 백플레인 구조 및 제조 방법 |
| 성과고유번호 |
PTR-2020-00211512482 |
성과발생연도 |
2020 |
국내외구분 |
국내 |
| 출원/등록번호 |
10-2168-1850000 |
출원/등록일자 |
2020-10-14 |
출원/등록기관 |
한국전자통신연구원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 |
|
특허유형 |
특허 |
출원/등록구분 |
출원 |
| 기여율 |
50.0 % |
공개여부 |
공개 |
| 증빙자료 |
|
| 최초등록 |
관리자,
2024-04-11 PM 02시 21분
|
최종수정 |
관리자,
2024-10-24 PM 01시 35분
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지식재산권 상세정보
| 과제 |
초고해상도/초유연 TFT 소재평가 플랫폼 구축 및 백플레인 기술 개발 |
| 지식재산권명 |
비평면 박막트렌지스터 전극을 이용한 디스플레이 백플레인 구조 및 제조 방법 |
| 성과고유번호 |
PTR-2020-00211512482 |
| 성과발생연도 |
2020 |
| 국내외구분 |
국내 |
| 출원/등록번호 |
10-2168-1850000 |
| 출원/등록일자 |
2020-10-14 |
| 출원/등록기관 |
한국전자통신연구원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 |
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| 특허유형 |
특허 |
| 출원/등록구분 |
출원 |
| 기여율 |
50.0 % |
| 공개여부 |
공개 |
| 증빙자료 |
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| 최초등록 |
관리자,
2024-04-11 PM 02시 21분
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| 최종수정 |
관리자,
2024-10-24 PM 01시 35분
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