지식재산권 상세
목록InP 기판을 이용한 소자 제조 방법
작성자
관리자
조회수
26
등록일
2024-04-11
지식재산권 상세정보
| 과제 | 초고주파 대역용 3D TIV 집적화 공정 및 적층형 InP/GaN 소자 기술 개발 | ||||
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| 지식재산권명 | InP 기판을 이용한 소자 제조 방법 | ||||
| 성과고유번호 | pub-2021-0000029995 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | 국내 |
| 출원/등록번호 | 1023466450000 | 출원/등록일자 | 2021-12-29 | 출원/등록기관 | 한국과학기술원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 | 특허유형 | 특허 | 출원/등록구분 | 등록 | |
| 기여율 | 50.0 % | 공개여부 | 공개 | ||
| 증빙자료 | |||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-04-11 PM 02시 49분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 36분 | ||
지식재산권 원문