지식재산권 상세
목록양자점의 개질 방법
작성자
관리자
조회수
27
등록일
2024-04-11
지식재산권 상세정보
| 과제 | 광대역 광전소자용 핵심 용액공정 소재 개발 | ||||
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| 지식재산권명 | 양자점의 개질 방법 | ||||
| 성과고유번호 | app_2021_0000015636 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | 국내 |
| 출원/등록번호 | 1020210054818 | 출원/등록일자 | 2021-04-28 | 출원/등록기관 | 성균관대학교산학협력단 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 | 특허유형 | 특허 | 출원/등록구분 | 출원 | |
| 기여율 | 50.0 % | 공개여부 | 공개 | ||
| 증빙자료 | |||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-04-11 PM 02시 50분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 37분 | ||
지식재산권 원문
| 특허명 |
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| 양자점의 개질 방법 |